pnp in Oszillatoren

R

R.Freitag

Guest
Mahlzeit allerseits,

ich habe versucht, in der Literatur Oszillatorschaltungen mit einem
pnp-Transistor zu finden- aber erfolglos. Wer hat welche und warum werden
pnp-Transistoren nur selten verwendet?

Grüsse

Robert
 
R.Freitag schrieb:
Mahlzeit allerseits,

ich habe versucht, in der Literatur Oszillatorschaltungen mit einem
pnp-Transistor zu finden- aber erfolglos. Wer hat welche und warum werden
pnp-Transistoren nur selten verwendet?

Grüsse

Robert
Tach Robert!

Betriebsspannung und etwaige Elkos umpolen und einfach einen PNP-
statt NPN-Transistor nehmen. Wo ist das Problem?

Julien
 
Habe ich das falsch in Erinnerung oder sind PNP's nicht einfach langsamer
und teurer als NPN's? Vor allem bei höheren Frequenzen/grösseren Stückzahlen
dürfte das eine Rolle spielen.

Gruss und "en Guete", Edi
 
Habe ich das falsch in Erinnerung oder sind PNP's nicht einfach langsamer
und teurer als NPN's?
Ich habe mal gelesen dass man pnp rauschärmer bauen kann als npn.
Ist da was dran?

Georg
 
On Mon, 28 Jul 2003 12:12:00 +0200, Georg Seegerer
<georgseegerer@web.de> wrote:

Habe ich das falsch in Erinnerung oder sind PNP's nicht einfach langsamer
und teurer als NPN's?

Ich habe mal gelesen dass man pnp rauschärmer bauen kann als npn.
Ist da was dran?
Und ich hörte mal, daß sich im Phasenrauschen von Oszillatoren mit
PNP-Transistoren die Stimmen von Verstorbenen besser bemerkbar machen
als in gleichartigen Schaltungen mit NPN-Transistoren?

Was ist eigentlich jetzt besser: PNP oder NPN?

Was für Fragen! Du meine Güte!

dbH

--
Lieber schlage ich mich als Lebenskünstler durch, als mich wirtschaftlich
abgesichert mit Selbstmordgedanken zu tragen, und letzteres trifft
meine Situation zeitweilig ziemlich gut. (Bosau, 28.09.1996, 17:36 Uhr)
 
"Rafael Deliano" <Rafael_Deliano@t-online.de> schrieb im Newsbeitrag
news:3F252D71.EAB13F77@t-online.de...
* Bei Germanium war anno ehedem PNP gängig, NPN der Exot.
Man sehe mal in seinen Braun Lectron Experimentierbaukasten
von ca. 1969: nur Germanium PNPs.
Hatte eventuell auch was mit Fertigungstechnik zu tun.
So isses. Frühe Transistoren wurden per Legierung hergestellt. Dabei wurde
ein n-Kristall von beiden Seiten mit Al kontaktiert und dabei soweit
aufgescholzen, dass eine Al-Ge-Schmelze entstand. So hatte man p-Dotierung
und Metallisierung in einem Schritt. In der Mitte blieb eine n-Basis stehen.

Gruß,
Patrick
 
On Tue, 29 Jul 2003 17:37:14 +0200, "Patrick Schalberger"
<antwortadresse@schalberger.de> wrote:

So isses. Frühe Transistoren wurden per Legierung hergestellt. Dabei wurde
ein n-Kristall von beiden Seiten mit Al kontaktiert und dabei soweit
aufgescholzen, dass eine Al-Ge-Schmelze entstand. So hatte man p-Dotierung
und Metallisierung in einem Schritt. In der Mitte blieb eine n-Basis stehen.
Nicht Al. In.

HB

--
Lieber schlage ich mich als Lebenskünstler durch, als mich wirtschaftlich
abgesichert mit Selbstmordgedanken zu tragen, und letzteres trifft
meine Situation zeitweilig ziemlich gut. (Bosau, 28.09.1996, 17:36 Uhr)
 
"Holger Bruns" <hbruns@gmx.de> schrieb im Newsbeitrag
news:3f26a423.342083@news.cis.dfn.de...
On Tue, 29 Jul 2003 17:37:14 +0200, "Patrick Schalberger"
antwortadresse@schalberger.de> wrote:

So isses. Frühe Transistoren wurden per Legierung hergestellt. Dabei
wurde
ein n-Kristall von beiden Seiten mit Al kontaktiert und dabei soweit
aufgescholzen, dass eine Al-Ge-Schmelze entstand. So hatte man
p-Dotierung
und Metallisierung in einem Schritt. In der Mitte blieb eine n-Basis
stehen.

Nicht Al. In.
Wirklich? Gibt's da nen Grund für? Ich muß zugeben, daß ich das Al aus men
Si-Prozess habe. Mit reiner Ge-Technologie hatte ich noch nie was zu tun.

Gruß,
Patrick
 
Heinz Saathoff schrieb:

Dieter Wiedmann schrieb...
Klar, Al schmilzt erst bei 660°C (In: 115°C). Bei dieser Temperatur ist
die Diffusion von Al in Ge aber schon viel zu schnell, man kann keine
definierte Dicke der Basiszone mehr erreichen.

Das paßt auch zu der kleineren max. erlaubten Temperatur bei Ge
Transistoren.
Hat aber damit nichts zu tun, das liegt am geringeren Bandabstand.


Was mich in diesem Zusammenhang mal interessieren würde: Was passiert
bei Si Transistoren, wenn deren maximal spezifizierte Sperrschicht oder
Substrattemperatur überschritten wird. Beim alten 3055
Leistungstransistor lag die maximale Temperatur IIRC bei 175 Grad-C.
Schmilzt oberhalb diese Temperatur etwas oder fangen Dotierungsatome an
zu wandern? Letzteres würde ja 'nur' zu einem schleichenden Defekt
führen.
Zunächst mal wird das Si selbstleitend weil durch die hohe Temperatur
genügend Elektronen ins Leitungsband angehoben werden. Als Folge kann
dann die Verlustleistung weiter ansteigen und entweder legiert der
Transistor dann durch oder die Bondingdrähte schmelzen weg. Den
schleichenden Defekt gibts auch, die MTBF sinkt mit steigender
Sperrschichttemperatur exponentiell.


Gruß Dieter
 
Joerg Wunsch schrieb...
Danach dürfte dann irgendwann die Verkappung weich werden, so daß
u. U. durch thermische Spannung ein Bonddraht abreißen kann (bei
Polymer-Verkappung, Kermik hält bißchen länger ;-).
Thermische Spannungen, gerade bei Materialien mit unterschiedlicherm
Ausdehnungskoeffizient, müsste doch generel ein Problem darstellen,
gerade auch bei Leistungshalbleitern, wo der Chup zwecks Kühlung auf
einer Al oder Cu Platte geklebt wird. Es muß ja sichergestellt werden,
daß bei vielen Temperaturzyklen die Verbindung nicht aufreißt, ws dann
wg. fehlendem thermischen Kontakt noch eher zum Tod des Chips führen
würde.

Aber der schleichende Defekt ist sicher der kritische, zumal er auch
erstmal unbemerkt bleibt, aber infolge Materialwanderung sich der
Chip daran ,,erinnert'', d. h. ein Ausfall u. U. erst viel später
erfolgt.
Oder auch schleichende Verschlechterung der Eigenschaften. Mit der
Lichtausbeute von 7-Segmentanzeigen habe ich das schon gesehen.

- Heinz
 
Dieter Wiedmann schrieb...
Zunächst mal wird das Si selbstleitend weil durch die hohe Temperatur
genügend Elektronen ins Leitungsband angehoben werden. Als Folge kann
dann die Verlustleistung weiter ansteigen und entweder legiert der
Transistor dann durch oder die Bondingdrähte schmelzen weg. Den
schleichenden Defekt gibts auch, die MTBF sinkt mit steigender
Sperrschichttemperatur exponentiell.
Das mit der steigenden Verlustleistung infolge Selbstleitung kenn ich
von Bipolartransistoren. Bei MOSFETs gibts aber den gegenteiligen
Effekt, obwohl der Stromfluß auch in Silizium stattfindet.
Wenn die MTBF mit der Temperatur so stark sinkt, muß doch auch was im
Chip chemisch/physikalisch passieren.
Ich kann bei einem unserer Prüfstände z.B. eine schleichende
Verschlechterung der Lichtausbeute der großen 7-Segmentanzeigen
beobachten. Im Ruhezustand wird immer 0 angezeigt. Wenn bei Messungen
der mittlere Balken mal aufleuchtet, ist der inzwischen deutlich heller
als die anderen Segmente. Die Anzeigen werden wohl schon einige tausend
Stunden auf dem Buckel haben. Also muß sich hier im Halbleiter auch was
verändert haben.

- Heinz
 
z.B. eine schleichende Verschlechterung der Lichtausbeute
der großen 7-Segmentanzeigen
Vgl. auch HP-Application-Note AN1002:
"Consideration of CTR Variations in Optocoupler Circuit Designs"
Geht auf Abschätzung der Alterung der IR-LEDs ein die
Kopplungsfaktor im Lauf der Zeit absinken läßt.

MfG JRD
 
Heinz Saathoff <hsaat@despammed.com> wrote:

Was mich in diesem Zusammenhang mal interessieren würde: Was passiert
bei Si Transistoren, wenn deren maximal spezifizierte Sperrschicht
oder Substrattemperatur überschritten wird. Beim alten 3055
Leistungstransistor lag die maximale Temperatur IIRC bei 175 Grad-C.
Schmilzt oberhalb diese Temperatur etwas oder fangen Dotierungsatome
an zu wandern? Letzteres würde ja 'nur' zu einem schleichenden Defekt
führen.
So isses. Schmelzen tut da noch nix, beim Löten der Bauteile werden
ja kurzzeitig auch höhere Temperaturen benutzt. Das erste was
schmilzt, dürfte Gold-Bonddrähte sein, keine Ahnung über die exakte
Temperatur, aber ich hatte mal russische Transistoren (KT331, wenn ich
mich recht entsinne), die kamen als Chip mit Goldbonddrähten und einer
einfachen Tauchschicht über dem Chip, also richtig Miniatur. ;-) Die
Golddrähte legierten in PbSn bei normaler Löttempertur ratz-batz weg.

Danach dürfte dann irgendwann die Verkappung weich werden, so daß
u. U. durch thermische Spannung ein Bonddraht abreißen kann (bei
Polymer-Verkappung, Kermik hält bißchen länger ;-).

Erst dann käme irgendwann Al-Bonddraht. Keine Ahnung, womit
heutzutage vorzugsweise gebondet wird, ob Al oder Au.

Bei Al-Leiterbahnen kommt es zur Whiskerbildung, Al dehnt sich stärker
thermisch aus als Si, so daß da ,,Buckel'' aus den Leitbahnen wachsen.
Diese können zu Kurzschlüssen führen

Aber der schleichende Defekt ist sicher der kritische, zumal er auch
erstmal unbemerkt bleibt, aber infolge Materialwanderung sich der
Chip daran ,,erinnert'', d. h. ein Ausfall u. U. erst viel später
erfolgt.
--
J"org Wunsch Unix support engineer
joerg_wunsch@interface-systems.de http://www.interface-systems.de/~j/
 
Heinz Saathoff <hsaat@despammed.com> wrote:

Danach dürfte dann irgendwann die Verkappung weich werden, so daß
u. U. durch thermische Spannung ein Bonddraht abreißen kann (bei
Polymer-Verkappung, Kermik hält bißchen länger ;-).

Thermische Spannungen, gerade bei Materialien mit unterschiedlicherm
Ausdehnungskoeffizient, müsste doch generel ein Problem darstellen,
gerade auch bei Leistungshalbleitern, wo der Chup zwecks Kühlung auf
einer Al oder Cu Platte geklebt wird.
Ja, der Klebstoff bzw. das Lot gleichen das auf der Die-Seite ganz
gut aus. Auf der Chipoberfläche habe ich da schon Konstruktionen
gesehen, bei denen erstmal ein weicher Polymer (gummiartig) benutzt
wird und die feste Vergußmasse nur den Außenmantel bildet.
--
J"org Wunsch Unix support engineer
joerg_wunsch@interface-systems.de http://www.interface-systems.de/~j/
 

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